X射線分析顯微鏡XGT-5200
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- X射線分析顯微鏡XGT-5200
- HORIBA堀場(chǎng)
- XGT-5200
- 日本
- 電議
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產(chǎn)品詳細(xì)介紹
特長(zhǎng)
- Ø400μmプローブで有害元素管理の為のマッピング分析を?qū)g現(xiàn)！
「Ø1.2mmでは大きい。もっと微小プローブで部品の有害元素マッピングが出來(lái)ないか？」というユーザの聲にお応えしました。
IC端子1本を狙い撃ちで分析できます。 - 基板など複合部品の有害元素管理から微小領(lǐng)域の不良解析まで1臺(tái)で対応
- 高分解能?高計(jì)數(shù)率
（當(dāng)社従來(lái)機(jī)種XGT-5000との比較） - 液體窒素不要
仕様
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測(cè)定原理 |
エネルギー分散型蛍光X線分析 |
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X線照射徑 |
Ø10μm、50μm、100μm、400μm、1.2mm、3mmより仕様選択 |
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測(cè)定対象元素 |
Na～U |
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試料室環(huán)(huán)境 |
大気 |
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サンプルサイズ |
300（W）×250（D）×400（H）mm |